【대전=뉴시스】 김양수 기자 = 전량 일본서 수입하던 반도체 코팅 소재를 정부출연연과 중소기업이 국산화하는데 성공했다.
국가핵융합연구소는 국내 중소기업인 ㈜세원하드페이싱와 미세 분말 상태에서도 응집하지 않는 용사코팅 소재인 '이트륨옥사이드(Y₂O₃);를 국내 최초로 개발하는 데 성공했다고 29일 밝혔다.
핵융합연은 이에 앞서 지난 2017년 용사코팅 전문업체인 세원하드페이싱에 용사코팅용 재료 분말의 유동성을 향상할 수 있는 '플라즈마' 기술을 이전하고 관련 제품 개발을 위해 협력해 왔다.
이를 통해 최근 핵융합연과 세원하드페이싱은 플라즈마 에처와 화학증착장비(CVD) 내부 코팅 등 반도체 공정장비에 적용하는 이트륨옥사이드를 생산한는데 성공했다. 이 소재는 국내 반도체 제조사들이 전량 일본에서 수입해 사용하고 있는 중이다.
용사코팅은 분말 상태의 재료를 반도체, 자동차, 전자제품 등의 부품 표면에 분사해 입히는 기술로 부품의 내열 및 내구성 등을 향상시키기 위해 다양한 산업 분야에서 활용되는 코팅 방식이다.
그동안 산업계는 용사코팅의 높은 치밀도 및 균일성과 빠른 코팅 형성 속도 등을 위해 크기가 작고 유동성이 좋은 용사 분말을 필요로 했다.
하지만 분말의 크기가 작아질수록 분사 과정에서 뭉치거나 엉기는 등 유동성이 낮아져 균일한 코팅이 이뤄지지 않는다는 문제가 있었다.
그러나 핵융합연의 플라즈마 기술을 적용한 용사 분말은 분말끼리 서로 밀어내는 반발력이 생겨 응집되지 않고 흐름이 좋아지기 때문에 치밀하고 균일한 코팅막을 형성할 수 있다.
